(Bahram Jalali.) (Foto: UCLA)

"Después de dominar la industria de la electrónica durante décadas, el silicio está ahora a punto de convertirse en el material preferido para la industria de la fotónica, el bastión de los semiconductores actuales", explica Bahram Jalali, profesor de Ingeniería de la UCLA, que dirigió a Sasan Fathpour y a Kevin Tsia en el proyecto que ha desembocado en este descubrimiento.

La cantidad de información que puede enviarse a través de una fibra óptica se relaciona directamente con la intensidad de la luz. Para llevar a cabo alguna de las funciones ópticas cruciales en una red óptica de ordenadores, tales como la amplificación, la conversión de las longitudes de onda, y la conmutación óptica, debe iluminarse el silicio con luz de alta intensidad para aprovechar sus propiedades no lineales. Un ejemplo es el efecto Raman, un fenómeno que ocurre con altas intensidades ópticas y que es la base de muchos recientes descubrimientos en el fotónica del silicio, incluyendo los primeros amplificadores ópticos y láseres hechos de silicio.

El desafío fundamental en la fotónica del silicio es que el material deja de ser transparente con intensidades ópticas altas, haciendo que la luz sea incapaz de atravesarlo.

En el pasado, este problema del silicio ha acarreado grandes pérdidas de energía para los amplificadores Raman de alta energía y los láseres, reduciendo su eficiencia y haciendo necesaria la utilización de complejos esquemas para mitigar estos efectos. El nuevo desarrollo de Ingeniería de la UCLA permitirá reciclar la energía que antes se perdía.