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| La ciencia rivaliza con la mitología en milagros. Ralph Waldo Emerson(1803-1882). Escritor y poeta estadounidense. |
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| Synopsys anuncia una plataforma para desarrollo de CI aplicando procesos de 65 n | |||||
Synopsys ha anunciado la ampliación de la plataforma de diseño de flujos RTL-to-GDSII para los últimos procesos tecnológicos de 65 nm ofrecidos por IBM y Samsung que utilizan una plataforma tecnológica común para los desarrollos de dispositivos en 65 nm. Synopsys ha destacado que su flujo de referencia de 65 nm direcciona reglas de diseño complejas y, directamente, analiza y reduce las áreas críticas durante la realización del proceso de forma que consiguen mayores campos con unos costes más reducidos. El punto clave del flujo de referencia de Synopsys es la herramienta de compilación de CI que anticipa el proceso de fabricación para reducir la pérdida de beneficios debidos a contaminación por partículas. Utilizando los algoritmos CAA (Critical Area Analysis) y juntándolo con los datos de fundido, el compilador de circuitos analiza e informa de las áreas de diseño que serán más conflictivas debido a la recepción de partículas aleatorias que permite realizar una metodología de despliegue de conexión automatizada que permite ahorrar tiempo, energía y mejorar las restricciones de diseño. Los miembros de la Plataforma Común (encabezados por IBM y Samsung) han generado nuevas reglas de diseño para reducir las pérdidas sistemáticas y mejorar la fiabilidad en los procesos tecnológicos de 65 nm. La nueva herramienta de Synopsys utiliza metodologías avanzadas para llevar el diseño por pasos manteniendo la consistencia de los datos a través de todo el proceso. Además, esta herramienta es compatible con otras herramientas de la compañía como Pilot Design Environment. Esta nueva herramienta ya ha sido probada por IBM y Samsung para el desarrollo de algunos miembros de la familia Artisan. | |||||
Miércoles, 26 Julio, 2006 - 11:00 | |||||
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