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| Nuevo método de litografía óptica | |||||
Unos ingenieros de la Universidad de California en Berkeley han dado a conocer una nueva forma de crear chips de ordenador que podría revitalizar la litografía óptica, una técnica de impresión de patrones que domina la fabricación de los circuitos integrados modernos. (NC&T) Combinando lentes metálicas que enfocan la luz a través de excitación de electrones, o plasmones, en la superficie de las lentes con un cabezal comparable en ciertos aspectos a la aguja de un tocadiscos de vinilo, y que también presenta similitudes con los cabezales lectores de los discos duros de ordenador, los investigadores fueron capaces de crear patrones de líneas de sólo 80 nanómetros de ancho a velocidades de hasta 12 metros por segundo, con posibilidades de trabajar con detalles de mayor resolución en un futuro cercano. Utilizando esta nanolitografía plasmónica, será posible hacer 10 veces más pequeños y mucho más potentes a los microprocesadores actuales. Esta tecnología también podría conducir a discos de densidad ultraelevada capaces de almacenar de 10 a 100 veces más información que los discos actuales. Xiang Zhang, profesor de ingeniería mecánica de la Universidad de California en Berkeley y jefe del equipo de investigación que está detrás de esta nueva idea, trabajó conjuntamente en el proyecto con David Bogy de la misma universidad y especialidad. El proceso de litografía óptica comparte algunos de los mismos principios de la fotografía de película, la cual crea imágenes exponiendo a la luz la película en una cámara, y revelando entonces dicha película con soluciones químicas. En la industria de los semiconductores, la litografía óptica es un proceso en el cual se transfiere la luz a través de una máscara con el patrón de circuito deseado sobre un material fotosensible, o fotorresistente, que reacciona químicamente cuando es expuesto. El material entonces pasa a través de una serie de baños químicos para grabar el diseño de circuito sobre una oblea. Con la litografía óptica, o fotolitografía, se puede llevar a cabo una proyección instantánea del diseño de un circuito complejo sobre una oblea de silicio. Sin embargo, la resolución máxima posible con esta técnica está limitada por la naturaleza de la luz. Para obtener detalles de menor tamaño, se deben utilizar longitudes de onda más y más pequeñas, lo que incrementa de manera notable el costo de fabricación. Además, la luz tiene un límite de difracción que restringe el grado de miniaturización del espacio sobre el que se puede enfocar la luz. Actualmente, el detalle de menor tamaño con fotolitografía convencional es de cerca de 35 nanómetros, pero la nueva técnica es capaz de lograr una resolución mucho mayor a un costo relativamente pequeño. | |||||
Martes, 02 Diciembre, 2008 - 09:17 | |||||
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